作者:Jackie Zhao 文章來源:http://wwwcb863.com/
1.前言
在絕緣柵雙極晶體管(insulated gate bipolar transistor,IGBT)得到大力發(fā)展以前,功率場效應管MOSFET被用于需要快速開關(guān)的中低壓場合,晶閘管、GTO被用于中高壓領(lǐng)域。MOSFET雖然有開關(guān)速度快、輸入阻抗高、熱穩(wěn)定性好、驅(qū)動電路簡單的優(yōu)點;但是,在200V或更高電壓的場合,MOSFET的導通電阻隨著擊穿電壓的增加會迅速增加,使得其功耗大幅增加,存在著不能得到高耐壓、大容量元件等的缺陷。雙極晶體管具有優(yōu)異的低正向?qū)▔航堤匦裕m然可以得到高耐壓、大容量的元件;但是它要求的驅(qū)動電流大,控制電路非常復雜,而且交換速度不夠快。
IGBT正是作為順應這種要求而開發(fā)的,它是由MOSFET(輸入級)和PNP晶體管(輸出級)復合而成的一種器件,既有MOSFET器件驅(qū)動功率小和開關(guān)速度快的特點(控制和響應),又有雙極型器件飽和壓降低而容量大的特點(功率級較為耐用),頻率特性介于MOSFET與功率晶體管之間,可正常工作于幾十KHz頻率范圍內(nèi);谶@些優(yōu)異的特性,IGBT一直廣泛使用在超過300V電壓的應用中,模塊化的IGBT可以滿足更高的電流傳導要求,其應用領(lǐng)域不斷提高,今后將有更大的發(fā)展。
2.IGBT構(gòu)造與特性
IGBT是由MOSFET和GTR技術(shù)結(jié)合而成的復合型開關(guān)器件,是通過在功率MOSFET的漏極上追加p+層而構(gòu)成的,性能上也是結(jié)合了MOSFET和雙極型功率晶體管的優(yōu)點。N+區(qū)稱為源區(qū),附于其上的電極稱為源極(即發(fā)射極E)。P+區(qū)稱為漏區(qū)。器件的控制區(qū)為柵區(qū),附于其上的電極稱為柵極(即門極G)。溝道在緊靠柵區(qū)邊界形成。在C、E兩極之間的P型區(qū)(包括P+和P-區(qū))(溝道在該區(qū)域形成),稱為亞溝道區(qū)(Subchannel region)。而在漏區(qū)另一側(cè)的P+區(qū)稱為漏注入?yún)^(qū)(Drain injector),它是IGBT特有的功能區(qū),與漏區(qū)和亞溝道區(qū)一起形成PNP雙極晶體管,起發(fā)射極的作用,向漏極注入空穴,進行導電調(diào)制,以降低器件的通態(tài)壓降。附于漏注入?yún)^(qū)上的電極稱為漏極(即集電極C)。
IGBT是由一個N溝道的MOSFET和一個PNP型GTR組成,它實際是以GTR為主導元件,以MOSFET為驅(qū)動元件的復合管。IGBT除了內(nèi)含PNP晶體管結(jié)構(gòu),還有NPN晶體管結(jié)構(gòu),該NPN晶體管通過將其基極與發(fā)射極短接至MOSFET的源極金屬端使之關(guān)斷。IGBT的4層PNPN結(jié)構(gòu),內(nèi)含的PNP與NPN晶體管形成了一個可控硅的結(jié)構(gòu),有可能會造成IGBT的擎柱效應。IGBT與MOSFET不同,內(nèi)部沒有寄生的反向二極管,因此在實際使用中(感性負載)需要搭配適當?shù)目旎謴投䴓O管。
IGBT的理想等效電路及實際等效如圖所示:
由等效電路可將IGBT作為是對PNP雙極晶體管和功率MOSFET進行達林頓連接后形成的單片型Bi-MOS晶體管。
因此,在門極-發(fā)射極之間外加正電壓使功率MOSFET導通時,PNP晶體管的基極-集電極就連接上了低電阻,從而使PNP晶體管處于導通狀態(tài),由于通過在漏極上追加p+層,在導通狀態(tài)下從p+層向n基極注入空穴,從而引發(fā)傳導性能的轉(zhuǎn)變,因此它與功率MOSFET相比,可以得到極低的通態(tài)電阻。
此后,使門極-發(fā)射極之間的電壓為0V時,首先功率MOSFET處于斷路狀態(tài),PNP晶體管的基極電流被切斷,從而處于斷路狀態(tài)。
如上所述,IGBT和功率MOSFET一樣,通過電壓信號可以控制開通和關(guān)斷動作。